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推薦產(chǎn)品
  • 振動(dòng)拋光機(jī)
    振動(dòng)拋光機(jī)

    VibroMet2振動(dòng)拋光機(jī)可通過幾乎水平方向的振動(dòng),搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用,可去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層,從而得到高質(zhì)量的拋光表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危...

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  • laserXtens激光引伸計(jì)
    laserXtens激光引伸計(jì)

    測(cè)量時(shí)無需標(biāo)距標(biāo)記、無需接觸,精度等級(jí)達(dá)到,這些特性是laserXtens激光引伸計(jì)的核心所在

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  • SENresearch4.0寬光譜橢偏儀
    SENresearch4.0寬光譜橢偏儀

    在寬的光譜范圍從190nm(深紫外)到3,500nm(近紅外)

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  • Sendira紅外光譜橢偏儀
    Sendira紅外光譜橢偏儀

    SENDIRA紅外光譜橢偏儀振動(dòng)光譜的特點(diǎn)是傅立葉紅外光譜儀FTIR

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  • 聲速測(cè)試系統(tǒng)
    聲速測(cè)試系統(tǒng)

    根據(jù)樣品成分選擇不同頻率的探頭,來測(cè)試不同衰減系數(shù)的樣品

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  • 高光譜成像系統(tǒng)
    高光譜成像系統(tǒng)

    型號(hào):SpecimIQ/SpecimFX17/SWIR/SpecimFX50/Fenix高光譜相機(jī)的波長范圍涵蓋可見光、近紅外及長波紅外范圍(VNIR、NIR、SWIR、MWIR和LWIR)

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  • 凹坑研磨儀
    凹坑研磨儀

    凹坑研磨儀預(yù)先切薄以接近電子透明度的快速可靠的機(jī)械方法,可顯著減少離子研磨時(shí)間和薄度不均現(xiàn)象。

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  • 磁控離子濺射儀
    磁控離子濺射儀

    型號(hào):GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD磁控離子濺射儀顆粒更小,更適宜于高倍圖像觀測(cè),適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡;低壓大電流濺射,效率更高。

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  • GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀
    GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀

    GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏,全數(shù)字顯示;全自動(dòng)控制,一鍵式操作;4根碳繩交替工作,自動(dòng)檢測(cè)通斷;連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作模式。

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  • GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀
    GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀

    GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀鍍金鍍碳一體機(jī)(高真空多功能鍍膜儀)雙組件設(shè)計(jì)、防污擋板設(shè)計(jì)、 一鍵切換工作模式、鍍膜效率高、顆粒度小、可鍍所有金屬膜和ITO 導(dǎo)電膜。

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  • ArBlade5000高性能研磨儀
    ArBlade5000高性能研磨儀

    ArBlade5000 是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能,使電鏡截面觀察時(shí)樣品 加工更簡(jiǎn)單。

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產(chǎn)品展示

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產(chǎn)品分類
  • 電鏡樣品制備

    離子研磨儀 鍍膜儀 熱蒸發(fā)鍍碳儀 離子濺射儀 精密離子減薄儀 凹坑研磨儀 研磨拋光機(jī) 振動(dòng)拋光機(jī)
  • 薄膜、塊體樣品制備

    真空封管機(jī)系統(tǒng) 水焊機(jī)(布朗氣焊接機(jī)) 靜電紡絲 勻膠機(jī) 流延機(jī) ALD原子層沉積設(shè)備 PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PVD物理氣相沉積設(shè)備 CVTD材料氣相生長輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)
  • 晶體樣品制備

    光學(xué)浮區(qū)爐
  • 粉末樣品制備

    噴霧干燥器
  • 器件樣品制備

    3D打印設(shè)備
  • 樣品處理系統(tǒng)

    惰性氣體手套箱系統(tǒng) 亞克力手套箱 手套箱蒸鍍一體機(jī) 有機(jī)溶劑凈化系統(tǒng)
  • 測(cè)試儀表

    鎖相放大器 數(shù)字源表 示波器 皮安表 阻抗分析儀 LCR表
  • 分析表征設(shè)備

    形貌成分表征 粒度分析 色譜分析儀 光譜分析儀 表面性能分析
  • 測(cè)試設(shè)備

    力學(xué)測(cè)試設(shè)備 電學(xué)測(cè)試設(shè)備 電化學(xué)測(cè)試設(shè)備 熱學(xué)測(cè)試設(shè)備 光學(xué)測(cè)試設(shè)備 磁學(xué)測(cè)試設(shè)備 聲學(xué)測(cè)試設(shè)備
  • 實(shí)驗(yàn)室通用輔助設(shè)備

    真空設(shè)備 氣源設(shè)備 溫控設(shè)備 稱量設(shè)備 研磨設(shè)備 樣品保存設(shè)備 清洗系統(tǒng) 電源設(shè)備 減震臺(tái) 配件、材料和耗材
  • 反應(yīng)設(shè)備

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  • 高分辨率顯微成像橢偏儀
    高分辨率顯微成像橢偏儀

    這臺(tái)高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀,這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù),它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù),使得我們能夠在小至1µm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射...

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  • 多功能高低溫真空探針臺(tái)
    多功能高低溫真空探針臺(tái)

    多功能高低溫真空探針臺(tái),電-光-氣接口齊全,應(yīng)用場(chǎng)景不受限。可實(shí)現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制。可與各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測(cè)試儀、光伏測(cè)試儀、半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀、源表等聯(lián)用,特別適合介電、鐵電、...

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  • 大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD
    大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD

    大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù),以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...

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  • 等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALD
    等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALD

    等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALDAT650P(等離子體增強(qiáng))/ AT650T(熱型)AT650T可在用戶現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)為AT650P

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  • 熱原子層沉積
    熱原子層沉積

    小型臺(tái)式 ALD(原子層沉積)工具專為簡(jiǎn)單的操作和安裝而設(shè)計(jì),而不會(huì)犧牲其性能,用于成本效益型研究與開發(fā)。

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  • 桌面原子層沉積系統(tǒng)ALD
    桌面原子層沉積系統(tǒng)ALD

    AT-200M(熱原子層沉積系統(tǒng))

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  • 粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
    粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

    粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

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  • ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟(jì)型
    ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟(jì)型

    該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡(jiǎn)單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。

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  • 脈沖電閃蒸反應(yīng)器 焦耳熱
    脈沖電閃蒸反應(yīng)器 焦耳熱

    設(shè)備特點(diǎn):$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個(gè)電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時(shí)測(cè)試系統(tǒng)。

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  • 臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
    臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱

    市面上最小的ALD,可放進(jìn)手套箱,來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,具有超快 MFC,用于集成惰性氣體吹掃。

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北京盈思拓科技有限公司
北京盈思拓科技(Instonetech)有限公司是材料研究領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)提供商。Instone是Institute、Instrument、Instant的縮寫,代表公司秉承專業(yè)、高效的經(jīng)營理念,為科研用戶提供技術(shù)服務(wù)。公司深耕國內(nèi)科研市場(chǎng)近十年,以中科院等專業(yè)院所背景的技術(shù)力量為依托,為國內(nèi)各大科研機(jī)構(gòu)及材料研究客戶提供科研儀器設(shè)備和專業(yè)技術(shù)服務(wù)。公司以代理國內(nèi)外材料化工方向的儀器設(shè)備為核心業(yè)務(wù),產(chǎn)品覆蓋材料制備、表征、光、熱、電、磁等研究領(lǐng)域。公司在提供專業(yè)儀器設(shè)備的基礎(chǔ)上,根據(jù)客戶的不同需求,提供“從0到1”的咨詢和建設(shè)服務(wù)(實(shí)驗(yàn)室設(shè)備及家具布局、通風(fēng)、潔凈及氣路等),為新能源電池、電子陶瓷、半導(dǎo)體材料、高分子材料等用戶提供一站式解決方案。此外,公司旗下?lián)碛杏蜒芯芗庸て脚_(tái),并擁有專業(yè)的技術(shù)工程師為實(shí)驗(yàn)設(shè)備提供系統(tǒng)集成服務(wù),提升科研實(shí)驗(yàn)的自動(dòng)化水平,為用戶提供增值服務(wù)。
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技術(shù)文章
  • 氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)的維護(hù)保養(yǎng):腔體清潔與部件更換
    氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行高度依賴腔體潔凈度和部件性能,科學(xué)的維護(hù)保養(yǎng)可使薄膜沉積均勻性提升15%,設(shè)備故障間隔延長至1000小時(shí)以上。腔體清潔與部件更換需遵循“預(yù)防為主、分級(jí)維護(hù)”原則,針對(duì)不同污染類型和部件損耗特性制定精準(zhǔn)方案。?腔體清潔需按污染程度分級(jí)處理。輕度污染(沉積薄膜厚度20μm)需使用超聲清洗:將可拆部件放入盛有5%氫氟酸溶液的超聲槽(頻率40kHz),清洗15分鐘后用去離子水沖洗至pH=7,烘干后裝配(避免裸手接觸,需戴潔凈手套)。?關(guān)鍵部件的更換需把握壽...
    2025-7-21
  • 膜厚測(cè)試千里眼,選區(qū)觀測(cè)1µm - 市面上的高分辨率顯微成像橢偏技術(shù)
    產(chǎn)品技術(shù)簡(jiǎn)介有別于傳統(tǒng)橢偏儀,這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù),它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù),使得我們能夠在小至1µm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射率。顯微鏡部分能夠同時(shí)測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)全視場(chǎng)范圍內(nèi)的所有結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)的橢偏儀注重于測(cè)量整個(gè)光斑,而不能實(shí)現(xiàn)高精度的橫向分辨率,并且需要逐點(diǎn)測(cè)量。該設(shè)備的顯微鏡功能使得我們能夠獲得微觀結(jié)構(gòu)的橢偏增強(qiáng)對(duì)比圖像,在相機(jī)的實(shí)時(shí)圖像中可以看到折射率或厚度的微小變化。允許識(shí)別橢偏測(cè)量的感興趣區(qū)域(選區(qū)測(cè)量),...
    2025-7-17
  • 多功能高低溫真空探針臺(tái)簡(jiǎn)介
    多功能高低溫真空探針臺(tái),結(jié)構(gòu)緊湊,體積小,探針移動(dòng)不受真空內(nèi)外壓差影響,電-光-氣接口齊全,應(yīng)用場(chǎng)景不受限。可實(shí)現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制;同時(shí),高精度線性升降溫程序控制,確保冷熱循環(huán)測(cè)試方便可靠。本探針臺(tái)與各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測(cè)試儀、光伏測(cè)試儀、半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀、源表等聯(lián)用,特別適合介電、鐵電、壓電、半導(dǎo)體、光伏、氣敏等功能材料與器件的溫度和氣氛依賴性測(cè)量。多功能高低溫真空探針臺(tái)INS-VP-01(配置10kV高壓探針)多功能高低溫真空探針臺(tái)INS-VP-02...
    2025-7-1
  • 臺(tái)式等離子體增強(qiáng)原子層沉積技術(shù)
    等離子體增強(qiáng)原子層沉積(ALD)是一種用于納米技術(shù)和半導(dǎo)體制造的薄膜沉積技術(shù)。等離子ALD是標(biāo)準(zhǔn)ALD技術(shù)的一種變體,它利用等離子體來增強(qiáng)沉積過程。等離子體增強(qiáng)原子層沉積(ALD)讓您在材料選擇以及使用等離子工藝在沉積前預(yù)處理(或清潔)表面方面擁有更大的自由度。了解等離子體增強(qiáng)原子層沉積(ALD)如何助您更輕松地實(shí)現(xiàn)目標(biāo)。01什么是等離子增強(qiáng)原子層沉積ALD?與傳統(tǒng)的熱驅(qū)動(dòng)ALD方法相比,使用等離子體物質(zhì)作為反應(yīng)物可以在處理?xiàng)l件上提供更大的自由度,并且可以適應(yīng)更廣泛的材料特性...
    2025-6-24
  • 深入了解下行星球磨儀的運(yùn)行原理
    在材料科學(xué)、化學(xué)分析和制藥工程等領(lǐng)域,行星球磨儀是一種重要的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。它以其高效的研磨能力和特別的行星運(yùn)動(dòng)模式,在納米材料制備、合金粉碎以及礦物樣品處理等方面展現(xiàn)出較好性能。為了更好地利用這一工具,深入理解其運(yùn)行原理顯得尤為重要。行星球磨儀的核心在于其模擬了太陽系中行星圍繞恒星旋轉(zhuǎn)的方式。具體來說,行星球磨儀包含一個(gè)主軸驅(qū)動(dòng)的公轉(zhuǎn)盤(也稱為行星盤),在其上安裝有多個(gè)球磨罐。當(dāng)設(shè)備啟動(dòng)時(shí),行星盤繞著中心軸做公轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),同時(shí)每個(gè)球磨罐又繞自身的軸線進(jìn)行自轉(zhuǎn)。這種復(fù)合運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生了強(qiáng)大的...
    2025-5-26
  • 熱蒸發(fā)鍍碳儀操作的安全規(guī)范與注意事項(xiàng)全匯總
    熱蒸發(fā)鍍碳儀在材料鍍膜等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用,但操作過程中涉及高溫、有害氣體等潛在危險(xiǎn),因此必須嚴(yán)格遵循相關(guān)安全規(guī)范和注意事項(xiàng)。一、安全規(guī)范??1.設(shè)備檢查??在每次使用前,應(yīng)對(duì)熱蒸發(fā)鍍碳儀進(jìn)行全面檢查。查看儀器各部件連接是否牢固,電源線有無破損,真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)等是否正常運(yùn)行。任何異常情況都應(yīng)在使用前解決,確保設(shè)備處于最佳狀態(tài)。??2.個(gè)人防護(hù)??操作人員必須全程佩戴專業(yè)防護(hù)裝備。包括防護(hù)眼鏡,防止鍍碳過程中產(chǎn)生的碳顆粒飛濺傷害眼睛;防護(hù)面罩,提供更全面的面部防護(hù);耐高溫手套...
    2025-4-21
  • 精密阻抗分析儀的日常維護(hù)要點(diǎn):確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行的秘訣
    精密阻抗分析儀在電子領(lǐng)域的研究、生產(chǎn)和檢測(cè)中發(fā)揮著重要作用。為了保證其穩(wěn)定運(yùn)行和測(cè)量精度,日常維護(hù)至關(guān)重要。首先,保持環(huán)境的適宜性。精密阻抗分析儀對(duì)環(huán)境濕度、溫度和潔凈度都有嚴(yán)格要求。應(yīng)將其放置在干燥、通風(fēng)良好且溫度穩(wěn)定的環(huán)境中,避免潮濕和高溫對(duì)設(shè)備造成損害,一般建議相對(duì)濕度控制在40%-60%,溫度保持在20-25℃。同時(shí),要防止灰塵、油污等污染物進(jìn)入儀器內(nèi)部,可定期使用干凈的空氣吹或防塵罩進(jìn)行防護(hù)。其次,定期清潔儀器。儀器表面和內(nèi)部都可能積累污垢,影響散熱和測(cè)量精度。對(duì)于...
    2025-3-20
  • LCR表的知識(shí)要點(diǎn),一看便知!
    LCR表(又稱LCR測(cè)量?jī)x)是一種專門用于測(cè)量電感(L)、電容(C)和電阻(R)值的電子測(cè)試儀器,廣泛應(yīng)用于電子元器件的測(cè)試和檢測(cè)。了解LCR表的基本原理、功能和使用方法對(duì)于電子工程師和技術(shù)人員非常重要。以下是LCR表的知識(shí)要點(diǎn),一看便知。1.基本功能其主要功能是測(cè)量電感、電容和電阻的數(shù)值。這些物理量是電子元器件的基本電學(xué)參數(shù),其通過精確測(cè)量這些值,幫助判斷元器件的質(zhì)量與性能。具體功能包括:電感(L)測(cè)量:其可以測(cè)量電感器件的電感值,通常單位為亨利(H)。電容(C)測(cè)量:用于...
    2025-1-17
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